Elektroniska kemikalier: är också känd som de elektroniska kemiska materialen. Avser generellt elektronikindustrins användning av specialkemikalier och kemiska material, säg: elektroniska komponenter, tryckta kretskort, alla typer av kemikalier och material som används vid förpackning och produktion av industri- och konsumentprodukter. De kan delas in i följande artiklar efter olika applikationer: basskiva, fotoresist, elektropläteringskemikalier, inkapslingsmaterial, reagens med hög renhet, specialgas, lösningsmedel, rengöring, dopningsmedel före rengöring, lödmask, syra och kaustik, elektroniska speciallim och hjälpmedel material etc. Elektroniska kemikalier är olika, höga kvalitetskrav, liten dos, höga krav på miljörenhet, snabb produktuppgradering, stort nettoinflöde, högt förädlingsvärde, etc.. Dessa egenskaper är mer och mer uppenbara tillsammans med utveckling av mikrobearbetningstekniken.
Filtrering syfte: för att avlägsna partiklar och kolloidala föroreningar;
Filtreringskrav:
1. På grund av filtreringsvätskan med hög viskositet måste filterhuset normalt kunna motstå högt tryck och mekanisk styrka
2. Filtermaterial måste ha god kompatibilitet;
3. Bra filtreringseffektivitet för att ta bort partiklar och kolloidala föroreningar.
Filtreringskonfiguration:
|
Filtreringssteg |
Rekommenderad lösning |
|
förfiltrering |
FB |
|
2:a filtreringen |
DPP/IPP/RPP |
|
3:e filtreringen |
DHPF/DHPV |
PCB-kretskort kallas också för tryckt kretskort, det är leverantören av den elektriska anslutningen i de elektroniska komponenterna. Enligt kretskortsskiktet kan det delas in i enkelpanel, dubbelpanel, fyra lagerkort, 6 lagerkort och andra flerlagers kretskort.
Filtrering syfte: för att avlägsna partiklar och kolloidala föroreningar i vattnet eller vätskan;
Filtreringskrav:
1. Högt flöde, hög mekanisk hållfasthet, lång livslängd.
2. Utmärkt filtreringseffektivitet.
Filtreringskonfiguration:
| Filtreringssteg | Rekommenderad lösning |
| Förfiltrering | CP/SS |
| Precisionsfiltrering | IPS/RPP/Kapselfilter |
Filtreringsprocedur:
CMP, betyder kemisk mekanisk polering. Utrustningen och förbrukningsvarorna som används i CMP-teknik, inklusive: polermaskin, polerpasta, polerkudde, efter CMP-rengöringsutrustning, polerande slutpunktsdetektering och processkontrollutrustning, avfallsbehandling och testutrustning, etc.
CMP-poleringslösning är en sorts poleringsprodukter med hög renhet och låg jonisk metall genom en speciell process av högrent kiselpulverråmaterial. Det används ofta i olika materials nanoskala högplanariseringspolering.
Filtrering syfte: för att avlägsna partiklar och kolloidala föroreningar;
Filtreringskrav:
1. Låglösligt ämne från filtermedia, ingen medelförlust
2. Bra förmåga att ta bort orenheter, lång livslängd.
3. Hög flödeshastighet, hög mekanisk hållfasthet
Filtreringskonfiguration:
|
Filtreringssteg |
Rekommenderad lösning |
|
Förfiltrering |
CP/RPP |
|
precisionsfiltrering |
IPS/IPF/PN/PNN |
Filtreringsprocedur:
